フジミインコーポレーテッド：不二見研磨材工業所の創業とソニー向けゲルマニウム基板用研磨材

創業者の越山照次氏は1950年8月、名古屋市で不二見研磨材工業所を個人で起こした。最初の製品は光学レンズを磨くための人造研磨材「FO」（フジミ・オプティカル・エメリー）で、人造研磨材の国産化はFOが初めてである。当時の国内には粗い粒の研磨材を作るメーカーはあったものの、細かな微粉は作り手がなく、輸入品に依存していた。越山照次氏は勤務先から東工大へ派遣され、双眼鏡など光学機器向け研磨材の国産化を目指して分級技術を学んでいた。光学機械メーカーからレンズ用研磨材の開発を求められ、1950年にアルミナ微粉の分級に成功。輸入に依存していた微粉の市場で、身につけた分級技術を製品に変えられる余地を見たとみられる。

1953年3月、個人の工場を法人組織に改め、不二見研磨材工業株式会社を設立。FOは輸入品に見劣りしない品質との評価を得て、国内の光学機器メーカーの間で輸入品に取って代わった。分級には、沈む速さの差を使い上向きの水流で狙った粒を静止させて取り出す水中の方式を採り、精度を高めて取引先の信頼を得た。光学機器メーカーの需要の増加に合わせて売上が拡大し、事業の基盤ができた。FOの成功を足がかりに、白色アルミナ質の「WA」、アランダムの名で通る「A」を製品に加えた。緑色炭化けい素の「GC」、黒色炭化けい素の「C」も相次いで開発した。取引先が光学機器メーカー各社へ広がり、個人経営のままでは取引の信用と資金の調達に限りが生じたと推察される。

光学用研磨材の評判を聞いた東京通信工業（現ソニー）が、トランジスタ用ゲルマニウム・ウェハーの研磨材の開発を不二見研磨材工業に求めた。社長の越山勇氏は1995年の寄稿で、法人化の直後に訪れたトランジスタの時代を、電子産業と関わる起点に位置づけた。声のかかった不二見研磨材工業は、溶融アルミナや炭化けい素を原料とする人造研磨材を国内で最初に手がけ、その製品は光学レンズの研磨に使われていた。創業の時点で、国内に研磨用の微粉を製造するメーカーは他になく、微粉は輸入品で賄われた。微粉の粒をそろえる分級技術が、ウェハーの研磨にも転用できると東京通信工業はみたのだろう。

東京通信工業向けの開発を契機に、不二見研磨材工業は1960年代から国内の半導体産業と深く関わるようになった。1960年代にはトランジスタの高集積化が進み、ICの需要が急増した。同じ1960年代に、大学院で電子物性学を専攻した越山勇氏（のちの社長）が入社し、創業者の現場主義と組み合わせて研究の水準を上げた。光学レンズ用に出したFOも、シリコンのラッピングに向く性質から半導体メーカーの目に留まり、高純度シリコンウェハー用として需要を広げた。1966年には旧ソ連への製品の輸出を開始し、これが海外展開の起点。光学と半導体の双方に同じ微粉の技術を展開できたことが、後のシリコンウェハー用ポリシング材の土台になったと考えられる。