1952年8月、東京都中央区において日本真空技術株式会社が設立された。設立目的は『各種真空装置の輸入販売』で、資本金は600万円の小規模な出発であった[1]。[2]創業期の日本産業界には半導体・ディスプレイ・電子部品といった現在の真空応用領域はまだ存在せず、真空技術は研究室レベルの応用が主であった。日本真空技術は黎明期の真空装置市場に対し、まず米国・欧州からの装置輸入販売で事業を立ち上げた。社名に『真空』を冠した日本最初の専業メーカーで、この選択が以後70年以上にわたる事業の方向性を定めた。
設立から3年弱の1955年4月、大森工場を新設して国産装置の製造に着手[3]した。輸入販売から国産設計・製造への転換である。続く1956年11月には株式会社東洋精機真空研究所を合併し[4]、尼崎工場として真空化学装置・真空ポンプの規格品製造を始めた。1961年7月には真空冶金事業を開始[5]、1962年9月に真空材料株式会社、同年10[6]月に熱分析機器メーカー真空理工株式会社を設立し、周辺領域へ事業を広げた。創業10年で、輸入商社から国産化を経て、材料・計測機器までを擁する真空技術専業グループへ発展した。
1963年10月、創業者個人による経営から[7]、1929年創立の旧会社・新生産業株式会社による吸収合併[8]へと組織を再編した。旧会社が吸収し、合併後の社名は日本真空技術株式会社のまま継続した。戦後復興期の創業企業が、戦前から続く老舗法人格との結合によって財務基盤と組織格の引き上げを図った組織変更であり、創業期の単独経営から戦後復興企業としての形を整えた。1968年5月には本社・横浜工場を神奈川県茅ヶ崎市に移転[9]し、以後現在に至るまで本社所在地は茅ヶ崎市で固定された。東京中央区での創業から首都圏外延部への本拠地集約であり、製造拠点と本社機能の一体化を狙う立地選定だった。
1964年1月、米国Reliance Electric and Engineering Co.と共同出資で日本リライアンス株式会社を設立した[10]。米国企業との合弁開始で、米国の真空技術・電気機器技術を国内に取り込む狙いがある。同年7月には香港万豊有限公司と共同出資でHong Kong ULVAC Co. Ltd.を設立[11]、アジア展開の起点とした。1975年12月には北米現地法人ULVAC North America Corp.を設立[12]、対米輸出の拠点として米国市場での販売・サービス体制を整えた。創業から25年で米国・アジアへの拠点展開を完了した。
1981年10月、米国Helix Technology Corp.と共同出資でアルバック・クライオ株式会社を設立[13]し、クライオポンプ(極低温ポンプ)事業を立ち上げた。1982年1月には台湾にULVAC TAIWAN Co[14]. Ltd.、同年11月には米国The Perkin Elmer社との共同出資でアルバック・ファイ株式会社を設立して計測分析事業を強化した。1982年12月には茨城県つくば市に筑波超材料研究所を設立[15]、1985年3月には核融合臨界プラズマ実験装置『JT-60[16]』の真空排気系を納入し、科学装置への参入を果たした。1987年2月には西独にULVAC GmbHを設立[17]して欧州市場へ進出、同年9月には英文社名をULVAC JAPAN Ltd.に変更してブランドを統一した。創業30〜40年で米国・台湾・欧州への拠点配置を完了し、世界市場での事業展開の素地を整えた。
1990年5月、静岡県裾野市に富士裾野工場を新設[18]した。半導体製造装置の生産体制強化を目的としたもので、創業期からの真空応用領域に半導体製造装置という成長市場を加えた転換点にあたる。1952年の創業から1980年代までのアルバックは、真空ポンプ・真空化学装置・クライオポンプ・計測分析装置・スパッタリングターゲットといった真空応用機器の専業メーカーとして事業を組み立てていた。半導体製造装置は装置単価と顧客あたり投資額が桁違いに大きい市場で、創業期からの応用領域とは異なるスケールの工場機能を必要とした。
富士裾野工場の新設は、半導体製造装置市場の規模感に対応する生産能力の確保を狙ったもので、東京都中央区創業・茅ヶ崎本社の体制に半導体製造装置の専用拠点を加えた。1990年代の日本半導体産業はDRAM市場のピークを通過しつつあったが、ロジック半導体・SoC・ファウンドリ市場の立ち上がりが続き、真空技術を中核プロセスに組み込む成膜・エッチング装置の需要は1990年から2000年にかけて拡大した。富士裾野工場は1995年以降の韓国・台湾・中国向け輸出の生産母基地としても機能し、後年のFY17(2018年6月期)売上高2,492億円・営業利益354億円のピーク水準を支える生産基盤となった。
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|---|---|---|---|---|
| 1952〜1990年真空技術専業の輸入販売から国産化への転換と高度成長期の事業基盤確立 | 日本真空技術を創業 | ★★ | ||
| 大森工場を新設し国産装置の製造に着手 | ★ | |||
| 東洋精機真空研究所を合併 | ★ | |||
| 真空冶金事業に参入 | ★★ | |||
| 新生産業に吸収合併され日本真空技術に商号変更 | ★★ | |||
| Reliance Electric and Engineering Co.と共同出資で日本リライアンスを設立 | ★ | |||
| 香港万豊有限公司と共同出資でHong Kong ULVAC Co. Ltd.を設立 | ★ | |||
| 真空冶金事業部を分離し真空冶金を設立 | ★ | |||
| 超材料研究所を新設 | ★ | |||
| ULVAC North America Corp.を設立 | ★ | |||
| Helix Technology Corp.と共同出資でアルバック・クライオを設立 | ★ | |||
| ULVAC TAIWAN Co. Ltd.を設立 | ★ | |||
| The Perkin Elmerと共同出資でアルバック・ファイを設立 | ★ | |||
| 西独にULVAC GmbHを設立 | ★ | |||
| 英文社名をULVAC JAPAN Ltd.に変更 | ★ | |||
| 富士裾野工場を新設 | ★ | |||
| 1991〜2010年海外展開の本格化と「アルバック」への商号変更 | ULVAC KOREA Ltd.を設立 | ★ | ||
| 中国寧波で寧波愛発科真空技術有限公司を設立 | ★ | |||
| 中村久三 | シンガポールCSセンター・台湾新竹R&Dセンターを開設 | ★ | ||
| 中村久三 | アルバックに商号変更 | ★ | ||
| 中村久三 | 愛発科真空技術(蘇州)有限公司を設立 | ★ | ||
| 中村久三 | 東証一部上場で集めた資本を半導体・FPD製造装置の生産能力へ積み増した資本政策 2004年4月20日の東京証券取引所市場第一部上場にあわせて有償一般募集500万株を発行し、同年12月にも400万株の公募増資を行った。4回の新株発行で資本金と資本準備金はあわせて214億円あまり増え、アルバックはその資金を半導体・FPD(フラットパネルディスプレイ)製造装置の生産能力拡張に振り向けた。 詳細を読む | ★★★ | ||
| 中村久三 | 富士通ヴィエルエスアイより設備事業譲受 | ★ | ||
| 諏訪秀則 | 愛知工場を新設 | ★ | ||
| 諏訪秀則 | 資本金134億68百万円より208億73百万円に増資 | ★ | ||
| 諏訪秀則 | アルバックマテリアルを吸収合併 | ★ | ||
| 2011〜2025年半導体・FPD製造装置の世界市場展開とSiCパワー半導体・EV電池への先行投資 | 諏訪秀則 | 純損失499億円を受けた創立以来初めての事業構造改革と、半導体・中小型パネルへの絞り込み 2012年4月26日、アルバックは国内グループで約700人の希望退職を募集し、中期経営計画を下方修正すると発表した。液晶パネルメーカーの投資抑制で装置受注が急減したことへの対応で、同社が創立以来初めて実行した事業構造改革にあたる。2012年6月期には構造改革費用247億38百万円を含む特別損失274億3百万円を計上し、当期純損失は499億84百万円に達した。 詳細を読む | ★★★ | |
| 岩下節生 | 愛発科成膜技術(合肥)有限公司を設立 | ★ |
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事実根拠:出所(アルバック)