中村久三
アルバック・元代表取締役社長
Nakamura Kyuzo
就任年 1996年
就任時年齢 —
退任年 2006年
在任期間 10年
出自 —
- 1996年9月から2006年9月まで10年在任し、社名変更と東証一部上場を挟んで在任後半の連結売上高を1,261億円から2,124億円へ伸ばした。
- 2001年7月に商号を日本真空技術から現社名へ改め、2004年4月に東京証券取引所市場第一部へ上場した。同年4月から12月の増資で資本金は38億50百万円から134億68百万円へ増えた
- 連結売上高はFY01（2002年6月期）1,261億円からFY04（2005年6月期）1,968億円、最終期のFY05（2006年6月期）2,124億円・営業利益148億円へ伸びた
- 半導体・FPD製造装置を軸に韓国・台湾・中国へ生産拠点を広げ、2005年4月に富士通ヴィエルエスアイからFPD設備事業を譲り受けた
- 退任後は代表取締役会長に就いた。
- 2006年9月に代表取締役社長を代表取締役副社長の諏訪秀則氏へ引き継ぎ、自身は代表取締役会長となった（FY06有報【役員の状況】）
就任前-
退任時（FY05）2,125億円
変化-
就任前-
退任時（FY05）7.0%
変化-
中村久三の経歴社長就任に至るキャリア
所属・役職1974年199020002006年╱╱
アルバック
1974年入社
1988年千葉超材料研究所長
1990年取締役
1994年常務取締役
1996年第１半導体装置事業部長
1996年代表取締役社長
2006年代表取締役会長
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