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|---|---|---|---|---|
| 1952〜1965年日本真空技術の創業と国産真空装置、真空冶金への参入と米リライアンスとの合弁 | 日本真空技術を創業 | ★★ | ||
| 大森工場を新設し国産装置の製造に着手 | ★ | |||
| 東洋精機真空研究所を合併 | ★ | |||
| 真空冶金事業に参入 | ★★ | |||
| 新生産業に吸収合併され日本真空技術に商号変更 | ★★ | |||
| Reliance Electric and Engineering Co.と共同出資で日本リライアンスを設立 | ★ | |||
| 香港万豊有限公司と共同出資でHong Kong ULVAC Co. Ltd.を設立 | ★ | |||
| 1966〜1989年真空冶金の分離と超材料研究所、北米・台湾・西独への展開 | 真空冶金事業部を分離し真空冶金を設立 | ★ | ||
| 超材料研究所を新設 | ★ | |||
| ULVAC North America Corp.を設立 | ★ | |||
| Helix Technology Corp.と共同出資でアルバック・クライオを設立 | ★ | |||
| ULVAC TAIWAN Co. Ltd.を設立 | ★ | |||
| The Perkin Elmerと共同出資でアルバック・ファイを設立 | ★ | |||
| 西独にULVAC GmbHを設立 | ★ | |||
| 英文社名をULVAC JAPAN Ltd.に変更 | ★ | |||
| 1990〜2011年富士裾野工場と韓国・中国の拠点、アルバックへの改称と東証一部上場 | 富士裾野工場を新設 | ★ | ||
| ULVAC KOREA Ltd.を設立 | ★ | |||
| 中国寧波で寧波愛発科真空技術有限公司を設立 | ★ | |||
| 中村久三 | シンガポールCSセンター・台湾新竹R&Dセンターを開設 | ★ | ||
| 中村久三 | アルバックに商号変更 | ★ | ||
| 中村久三 | 愛発科真空技術(蘇州)有限公司を設立 | ★ | ||
| 中村久三 | 東証一部上場で集めた資本を半導体・FPD製造装置の生産能力へ積み増した資本政策 2004年4月20日の東京証券取引所市場第一部上場にあわせて有償一般募集500万株を発行し、同年12月にも400万株の公募増資を行った。4回の新株発行で資本金と資本準備金はあわせて214億円あまり増え、アルバックはその資金を半導体・FPD(フラットパネルディスプレイ)製造装置の生産能力拡張に振り向けた。 詳細を読む | ★★★ | ||
| 中村久三 | 富士通ヴィエルエスアイより設備事業譲受 | ★ | ||
| 諏訪秀則 | 愛知工場を新設 | ★ | ||
| 諏訪秀則 | 資本金134億68百万円より208億73百万円に増資 | ★ | ||
| 諏訪秀則 | アルバックマテリアルを吸収合併 | ★ | ||
| 2012〜2026年国内グループの希望退職による構造改革と中国合肥の成膜拠点 | 諏訪秀則 | 純損失499億円を受けて踏み切った、創立以来初めての事業構造改革 2012年4月26日、アルバックは国内グループで約700人の希望退職を募集し、中期経営計画を下方修正すると発表した。液晶パネルメーカーの投資抑制で装置受注が急減したことへの対応で、同社が創立以来初めて実行した事業構造改革にあたる。2012年6月期には構造改革費用247億38百万円を含む特別損失274億3百万円を計上し、当期純損失は499億84百万円に達した。 詳細を読む | ★★★ | |
| 岩下節生 | 愛発科成膜技術(合肥)有限公司を設立 | ★ |
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