1996年2000年2010年2020年2026年
- 創業
- 1952年8月、真空技術を日本の産業に根付かせようとする10人の若手研究者が日本真空技術を設立した。初代社長は発起人代表の石川芳次郎氏で、松下幸之助氏ら6人の財界人が出資者として役員に並んでいる。2代目は石川芳次郎氏の娘婿の井街仁氏が務め、創業家の系譜は1971年に途切れた。
- 登用
- 直近20年の社長は諏訪秀則氏・小日向久治氏・岩下節生氏の3人で、全員が新卒入社のプロパーである。入社から就任までは29年から40年、いずれも事業部長から取締役、執行役員を経て昇進した。上場後に外部からトップを招いた例は確認できない。
- 任期
- 1971年から1986年まで15年在任した3代目の林主税氏が中興の祖にあたる。以後の最長は1996年9月から10年務めた中村久三氏で、続く諏訪秀則氏は6年、小日向久治氏は5年と短い。現任の岩下節生氏は2017年7月から9年目に入り、2025年7月にCEO職を加えた。中国向けの装置需要の継続が長期化の理由と推定される。
- 含意
- 取締役7名のうち社外は4名で半数を超え、指名報酬等委員会の委員長も社外取締役が務める。ただし機関設計は監査役会設置会社のままで、委員会の責務は答申にとどまり、社長自身が委員に入って取締役会の議長も務める。後継は生え抜きの事業部長ラインから出るように見える。
| 氏名 | 社長在任期間 退任年は推定 | 在任年数 推定 | 状況 | 出自 | 役職 | 在任中の決断 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 中村久三 | 1996〜2006年 | 10年 | 退任 | 生え抜き | 代表取締役社長 | 決断2004年東証一部上場で集めた資本を半導体・FPD製造装置の生産能力へ積み増した資本政策 |
| 諏訪秀則 | 2006〜2012年 | 6年 | 退任 | 生え抜き | 代表取締役社長 | |
| 小日向久治 | 2012〜2017年 | 5年 | 退任 | 生え抜き | 執行役員社長 | 決断2012年純損失499億円を受けた創立以来初めての事業構造改革と、半導体・中小型パネルへの絞り込み |
| 岩下節生 | 2017年〜現任 | 10年 | 現任 | 生え抜き | 代表取締役執行役員社長 |