歴代社長 — 任期および後継の系譜:29カ年の傾向 代表取締役社長・CEO の在任期間と承継の構造
- 1952年8月の創業以来、データ整備可能なFY96以降の代表取締役社長は諏訪秀則氏(FY96〜FY10)、小日向久治氏(FY11〜FY15)、岩下節生氏(FY16〜現任)の3名で、いずれもアルバック生え抜き出身者である。社長交代は概ね5〜10年ごとの内部昇進型で行われ、創業期から続く真空技術専業メーカーの技術系経営者継承を維持している。
- 諏訪秀則氏の任期はFY96〜FY10(社長執行役員制移行前)で、2004年4月の東証一部上場(FY03)から、リーマンショックを挟むFY09・FY10 売上高2,200億円台までの拡大期を率いた。後継の小日向久治氏(FY11-FY15)は代表取締役執行役員社長制下で2010年代前半の市場調整期を担当、FY12 連結純損失38億円・FY13 連結純損失49億円という業績下振れ期を通じて事業ポートフォリオの再整理を進めた。
- 現任の岩下節生氏(FY16就任、2024年6月にCEO肩書追加)は、中国半導体投資の本格化局面で半導体・FPD製造装置の海外売上比率を拡大、FY17 売上高2,492億円・営業利益353億円のピーク水準を実現した。コロナ禍を経たFY21 売上高2,412億円・FY23 売上高2,611億円・FY24 売上高2,512億円と高水準を維持し、SiCパワー半導体・EV電池・有機EL向け装置への先行投資を継続している。
歴代社長
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諏訪秀則代表取締役社長小日向久治代表取締役執行役員社長岩下節生代表取締役執行役員社長岩下節生代表取締役社長岩下節生代表取締役社長CEO歴代社長の変遷 — 略歴と業績貢献 各社長の経歴と在任中の業績への貢献
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岩下節生
2016年〜現任・在任11年主な施策- 2018/7 愛発科成膜技術(合肥)有限公司を設立
経歴アルバック 1984年〜- 1984年
- 入社
- 2011年
- 取締役
- 2013年
- 常務執行役員
- 2015年
- 専務執行役員
- 2017年
- 代表取締役執行役員社長
- 2025年
- 代表取締役社長CEO
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小日向久治
2011〜2015年・在任5年経歴経歴調査中 -
諏訪秀則
1996〜2010年・在任15年主な施策- 1998/1 シンガポールCSセンター及び台湾新竹R&Dセンターを開設
- 2001/7 株式会社アルバックに商号変更
- 2002/12 アルバック・ファイ株式会社を100%子会社化
- 2003/7 愛発科真空技術(蘇州)有限公司を設立
- 2004/4 東京証券取引所市場第1部に株式を上場
経歴経歴調査中