KOKUSAIエレクトリックの歴史

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沿革

1949年に国際電気通信の狛江工場を母体に設立された国際電気が起源。

1957年に単結晶引上装置を納めて半導体製造装置事業を始め、2018年に日立国際電気から成膜事業を分割して発足した。バッチ式成膜装置の専業で、原子の層を積むALDでは世界シェア約7割を占める。

1949年 1961年 2000年 2018年 2026年 国際電気 1949年設立 株式上場 1961年上場 日立電子 2000年合併 八木アンテナ 2000年合併 KOKUSAIエレクトリック 2018年成膜事業を承継
  1. 国際電気を設立[1]
  2. 朝鮮動乱の特需景気で船舶用無線機器の受注増[2]
  3. 単結晶引上装置を受注し半導体製造装置事業に参入[1]
  4. シリコン単結晶浮遊帯域精製装置が完成[2]
  5. 東京証券取引所に上場(同年に市場第一部指定)[1]上場
  6. 高周波応用によるシリコン単結晶のライフタイム測定器と比抵抗測定器を開発[1]
  7. 事業部制を採用[3]
  8. 半導体製造装置における不純物拡散の研究を開始[1]
  9. 不純物拡散の研究により拡散炉を開発[1]
  10. 狛江工場の売却移転の方針を決定[4]
  11. 新経営体制を発表[4]
  12. CVD装置を開発[1]
  13. 半導体製造装置の専門工場コク5号館が完成[4]
  14. 米国にKokusai Electric Co., of Americaを設立[5]
第1章電元工業の狛江工場を継いだ第2会社と、日立製作所との技術提携
売上高
  • 売上高
KOKUSAIエレクトリック売上高—

1974年〜国際電気の半導体製造装置事業

  1. ドイツにKokusai Electric Europeを設立[5]
  2. 150mmウェーハ対応のシリコン・エピタキシャル成長装置(DC-7000)を開発[1]
  3. 縦型CVD拡散装置「VERTEX」の発売を開始[1]
  4. 150mmウェーハ対応の縦型CVD装置(VERTEX-Ⅱ)を開発[1]
  5. 国際電気システムサービス(現国際電気セミコンダクターサービス)を設立[5]
  6. 富山事業所が操業開始[5]
  7. 200mmウェーハ対応の縦型CVD装置(VERTEX-Ⅲ)を開発[1]
  8. 富山事業所・トレーニングセンターを開設[5]
  9. 韓国天安市にKook Je Electric Koreaを設立[5]
  10. 300mmウェーハ対応の縦型拡散・CVD装置(ZESTONE-Ⅲ)を開発[1]
  11. 300mmウェーハ対応の枚葉CVD装置(ZESTONE-Ⅶ)を開発[1]
  12. 台湾に亜太國際電機股份有限公司を設立[5]
  13. Kokusai Semiconductor Equipment Corporationを設立し半導体製造装置業務を移行[5]
売上高
  • 売上高
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転換期

2000年〜国際電気・日立電子・八木アンテナの合併による日立国際電気の発足

  1. 国際電気・日立電子・八木アンテナが合併し日立国際電気が発足[5]
  2. 国際電気システムサービスが国際電気セミコンダクターサービスに商号変更[5]商号変更
  3. 次世代プロセス対応枚葉プラズマ窒化装置(MARORA)を開発[1]
  4. Kokusai Semiconductor EquipmentがKokusai Electric Americaを吸収合併[5]
  5. NEW QUIXACE L/L(QLV2)を開発[1]
  6. Kokusai Electric Asia Pacific Shanghaiに追加出資[5]
  7. 高生産性アッシング・アニールTANDUOを開発[1]
  8. Kokusai Electric EuropeとHitachi Kokusai Electric Europeが合併[5]
  9. 日立製作所の連結子会社化[5]買収
  10. Kook Je Electric Koreaを株式の追加取得により連結子会社化[5]買収
  11. Kook Je Electric Korea平澤工場を建設[5]
  12. QUIXACE ULTIMATEを開発[1]
  13. Kook Je Electric KoreaがFusionaidを吸収合併[5]
  14. 高生産性縦型装置AdvancedAce-300を開発[1]
  15. Kook Je Electric KoreaがKOSDAQ市場上場廃止[5]上場廃止
  16. Kook Je Electric Koreaの全株式を取得し完全子会社化[5]買収
売上高
  • 売上高
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転換期

2017年〜KKR傘下での非公開化とプライム市場への再上場

  1. HKEホールディングスを東京都千代田区丸の内に設立[1]
  2. KKRによる非公開化と成膜事業分割選択と集中
  3. 富山事業所剱館が完成[5]
  4. HKEホールディングスが日立国際電気の公開買付けを実施[5]買収
  5. 本店を東京都千代田区丸の内から神田へ移転[1]
  6. 日立国際電気が東京証券取引所一部を上場廃止[5]上場廃止
  7. HKEホールディングスがKook Je Electric Koreaの全株式を取得[5]
  8. HKEホールディングスが日立国際電気を完全子会社化[5]買収
  9. 会社分割で成膜事業を承継しKOKUSAIエレクトリックが発足[6]創業
  10. AdvancedAceⅡを開発[1]
  11. アプライドマテリアルズが約22億ドルでの買収を発表[7]買収
  12. 日立国際電気の全株式をHVJホールディングスに売却[5]
  13. アプライドマテリアルズによる買収が破談[8]買収
  14. 新しい企業理念「KOKUSAI ELECTRIC Way」を制定[5]
  15. 東京証券取引所プライム市場に新規上場[5]上場
  16. シンガポールにKokusai Semiconductor Singaporeを設立[5]
  17. KKR保有株の海外売出しを決定[9]
  18. 砺波事業所が操業開始[5]
  19. 横浜テクノロジーセンタが操業開始[5]
  20. 塚田和徳氏が社長に就任[9]社長交代
  21. 本店を東京都千代田区神田から大手町へ移転[5]
  22. KKR HKE Investmentが主要株主から離脱[9]
売上高当期純利益率
  • 売上高
  • 売上原価
  • 販管費
  • その他費用
  • 営業利益
  • 当期純利益率
KOKUSAIエレクトリック2026年3月期売上高2,351億円売上高当期純利益率12.8%
出典・参考 9件
出典・参考
  • [1]KOKUSAI_ELECTRIC 公式サイト「沿革」(2026年10月)
  • [2]国際電気社史編集委員会 編『国際電気30年史』 1章 創業前史(1979年)
  • [3]国際電気社史編集委員会 編『国際電気30年史』 資料編(年表)(1979年)
  • [4]国際電気社史編集委員会 編『国際電気30年史』 5章 羽村工場の建設と移転(1979年)
  • [5]有価証券報告書(2026年6月25日)
  • [6]KOKUSAI ELECTRIC 会社沿革
  • [7]Applied Materials プレスリリース(2019年7月1日)
  • [8]Applied Materials プレスリリース(2021年3月)
  • [9]臨時報告書

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