サムコの歴史

沿革

創業期

1979年〜サムコの創業と国産初のプラズマCVD装置の発売

  1. サムコインターナショナル研究所を設立[1]
  2. 国産初のプラズマCVD装置を発売[2]
  3. 東京出張所を開設[1]
  4. 本社を移転[1]
  5. オプトフィルムス研究所を開設[1]
売上高
  • 売上高
サムコ売上高—
就任年社長氏名役職名
辻理
成長期

1991年〜研究開発センターの開設とDLC膜技術の共同開発

  1. 研究開発センターを開設[1]
  2. 米シンメトリックス社の技術で強誘電体成膜装置の製造・販売を開始[1]
  3. キリンビールとプラスチックボトルのDLC膜形成技術を共同開発[1]
  4. サムコエンジニアリングからサービス部門を譲受け[1]
  5. 英ケンブリッジ大学内に研究所を開設[1]
売上高
  • 売上高
サムコ売上高—
就任年社長氏名役職名
辻理
成長期

2001年〜店頭登録とボッシュ社からのエッチング技術の導入

  1. 日本証券業協会に株式を店頭登録[1]
  2. ロバート・ボッシュ社からシリコン高速ディープエッチング技術を導入[1]
  3. 上海事務所を開設[1]
  4. サムコに商号変更[1]商号変更
  5. ジャスダック証券取引所に上場[1]上場
  6. 清華大学とナノ加工技術で共同研究[1]
  7. 第二研究開発棟を開設[1]
  8. 保守サービス会社莎姆克股份有限公司を設立[1]
  9. 大阪証券取引所JASDAQ市場に移行[1]
売上高経常利益率
  • 売上高
  • 経常利益率
サムコ2012年7月期売上高38億円売上高経常利益率7.9%
就任年社長氏名役職名
辻理
安定成長期

2013年〜SiCパワーデバイス向け装置の発売と東証一部への指定替え

  1. 東京証券取引所市場第二部に指定替え[1]
  2. SiCパワーデバイス向け量産用ドライエッチング装置を発売[1]
  3. MEMS向け量産用ドライエッチング装置を発売[1]
  4. 東京証券取引所市場第一部に指定替え[1]
  5. UCP Processing Ltd.を子会社化[1]買収
  6. 公募増資を実施[1]
  7. 原子層堆積装置「AL-1」を発売[1]
  8. 第二生産技術棟が竣工[1]
  9. プラズマ洗浄装置「AQ-2000」を発売[1]
  10. クラスターツールシステム「クラスターH」を発売[1]
  11. プライム市場に移行[1]
  12. 先端技術開発棟を開設[1]
売上高経常利益率
  • 売上高
  • 売上原価
  • 販管費
  • 営業利益
  • 経常利益率
サムコ2025年7月期売上高93億円売上高経常利益率25.8%
就任年社長氏名役職名
辻理
川邊史
最新の適時開示
大林組MWH機軸の積極M&A
アートネイチャーバングラデシュに製造子会社ANBD社を設立
三菱電機三菱電機モビリティ株式50%の鴻海への譲渡
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出典・参考2件
出典・参考
  • [1]サムコ 公式サイト「沿革」（2026年10月）
  • [2]有価証券報告書

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最終改定: 2026年10月