フォトレジストへ資源集中（1984年・東京応化工業の決断）

何をなぜ決めたか：塩化ビニールなど大型市場への不参入と、狭い分野への資源の集中

概要

東京応化工業は1970年代を通じてフォトレジストを軸とする半導体材料へ資源を絞り込み、大手化学各社が同じ市場に参入してきた1980年代半ばにもその配分を変えなかった。技術的に近く成長も見込めた塩化ビニールへの進出は見送り、研究開発には予算の枠を置かずに資金を投じた。自社の規模に見合う領域を選ぶという線を、参入が相次いだ時期にも動かさなかった。

背景

創業以来のファイン・ケミカル技術を土台に、1962年のプリント基板用レジスト、1968年のネガ型OMR-81で半導体材料へ入った。ただし当時は資本金5億円台・従業員700人の中堅企業で、フォトレジストの年間市場規模も60億円程度にとどまっていた。

内容

大手が本気で量産に入れば規模で競争劣位に立つという理由から塩ビ市場へは進まず、大企業が必死に取り組みにくい分野に的を絞った。研究開発費には予算制度も中長期計画も置かず、顧客の製造ラインごとの仕様に合わせて300種類以上のレジストを作り分けた。

含意

半導体用フォトレジストで70%強のシェアを占め、売上高は1976年11月期の56億円から1984年11月期に367億円へ伸びた。1986年7月には東証第二部へ上場し、一分野の深耕で築いた寡占の実績を対外的に示した。