東京応化工業：東京応化工業の設立とフォトレジスト専業路線

東京工業試験所に1920年ごろ入り応用化学に携わった向井繁正は、まだ揺籃期にあった日本の化学工業がドイツ製品の輸入に依存しているのを見て、身につけた技術で世に打って出ようと、輸入品を国内で作ることに力を注いだ技術者だった。その向井（現会長）が1936年4月に個人企業として設けた東京応化研究所が、同社の起点である。研究所の目的は、炭鉱で採掘の明かりに使う安全灯のアルカリ電池向け電解剤、つまり精製水酸化カリウム（苛性カリ）を作ることにあった。1940年10月に改組して法人となり、資本金18万円で川崎市に東京応化工業株式会社が発足した。精製苛性カリは試薬・医薬品・化粧品にも用いられた。当初は感光材料ではなく、苛性カリという基礎化学品の専業メーカーとして歩み始めた。

創業時の1940年から敗戦の1945年までの5年間、戦時計画経済のもとで精製水酸化カリウムと精製水酸化ナトリウムはアルカリ電池の電解剤として重要視され、従来の硫酸電池より高い性能で炭鉱の採掘照明を支えた。戦後は炭鉱向けの精製苛性カリ供給を強く要請されたが、原料の塩化カリが乏しく、生産に20時間を要する工程が停電のたびに頓挫する難題を抱え、GHQに特別配線を依頼するなどして対処した。同時に、耐熱絶縁材料の塩化ナフタリンも戦後まもなく生産を再開し、占領米軍が持ち込んだC4電話機用コンデンサの充てん剤として供給したことが、後の電気・電子分野との関わりを深める契機となった。

戦後復興期には、向井が中心となって技術者を招き有機合成にも進出し、香料原料の塩化ベンジルやベンジル・アセテートとともに、後にフォトレジスト第一号の原料となる桂皮酸を開発していた。1955年5月からは、白黒テレビのブラウン管用蛍光体接着剤オーカシールの開発に成功し、ファイン・ケミカルズが直接エレクトロニクスに関与する転機となった。1964年の東京オリンピックを機にカラーテレビ需要が拡大すると、シャドウ・マスクのエッチングに使う感光剤の研究開発をNHKなど4社と進め、東京工業試験所と共同でTPR（東京応化フォトレジスト）を開発した。1967年1月には相模工場（現 TOK 技術革新センター）を新設し、量産対応と研究開発を両立する拠点を整備、創業から30年弱で感光性レジストの専業という地位を確立した。

フォトレジストは扱いが繊細ですぐに傷むため、輸入品は運ばれてくるまでの時間が長いぶん不具合が出やすく、回路パターンが極めて細かい半導体ではレジスト特性のほんのわずかな差が電子回路の仕上がりを大きく変えた。しかも半導体メーカーは自社の設備や仕様に合う材料を必要としていたのに、既存品には対応できる品種の幅がなかった。国産品を求める声が価格ではなくこうした材料の性質から出ていたなかで、プリント基板用で実績を積んでいた東京応化に高精度品の開発依頼が集まったのは、国内にほかの担い手がいなかったためだろう。同社は1968年3月に半導体用ネガ型フォトレジストOMR-81の製造に乗り出し、米コダック社製品が握っていた市場に食い込んだ。

フォトレジストの品種は300種類を超え、ユーザーごとの製造ラインの仕様に応じて作り分ける多品種少量生産となった。これを支えたのは開発の進め方で、構想から量産までを同じ担当者が通して見届け、その過程でユーザー企業と細部まで詰めを重ねた。工場にはクリーン・ルームを設け、微細加工を損なう塵が入り込まないようにした。輸入品では得られなかった清浄度である。1972年12月には国産初の半導体用ポジ型フォトレジストOFPR-2を開発し、ネガ・ポジの双方を揃えた。顧客ごとに仕様を刻む体制を取れたのは、組織が小さいこと自体が意思決定の速さに変わったからだろう。

大手電機メーカーがゲルマニウム半導体の量産に入ると、創業以来手がけてきた高純度苛性カリもそこで大量に消費されるようになった。感光材料と基礎化学品という二つの系統が、ともにエレクトロニクス向けの需要へつながったのである。電算機メーカー7社が1976年に活動を始めた超LSI技術研究組合では、高性能レジストの開発を素材の側から支え、それが技術を積み上げる一つの段階になった。1978年、半導体の関税を下げるようアメリカから強く迫られた日本の半導体メーカー各社は、自前の技術を固めることに総力を傾ける局面に入り、東京応化もその取り組みに加わって協力した。同じころ、別の角度から感光性樹脂版を開発し、印刷向けの柱に育てている。集積度を上げる国家的な開発計画へ材料の側から加わることは、次に要る材料の仕様を量産が始まる前に知る立場を得ることでもあった。

技術力を買われた東京応化に、塩化ビニールへ乗り出してはどうかという話が持ち込まれたのは、戦後まもない時期である。同社はそれ以前から塩化物を扱っていたので技術の距離は近く、伸びる見込みのある分野でもあった。事業として惹かれる面はあったものの、大手が本格的に量産して原価を押し下げてくれば、同じ規模の会社では勝ち目がない。そう判断して見送った。その代わりに同社が取ったのが、自前の技術がいちばん生きる分野に絞り込み、『あくまで自分の図体に合ったものを手がける』という方針だった。フォトレジストの年間推定売上高は1984年時点で60億円程度と、市場としては大きくなかった。技術的・営業的なめどが立たないうちは大手が必死で取り組む対象になりにくく、その手前で先行できたことが首位を生んだ。

東京応化には研究開発費の予算制度が無く、大枠すら決められていなかった。利益を食い潰さない限り資金を出すという方針のもと、技術者が必要と判断した研究や設備には金を惜しまず、他の部門を切り詰めてでも開発部門へ資金を回した。売上高は1976年11月期の56.39億円から1983年11月期の252.31億円へと伸びたが、その裏には開発費を惜しまない姿勢があった。同社は中長期計画を持たず、ユーザーの求めが出るたびに必要な開発費を工面して応じてきた。支えにあったのは独特の技術観である。技術には目に見えない部分が多く、氷山と同じで水面下が膨らまなければ水面上も伸びないと考えていた。技術がすぐ古くなる半導体の世界では、贅沢に見えるこのやり方が、競り合いの中で落ちこぼれないための手立てにもなっていた。

1980年代に入ると、日本合成ゴム・住友化学・日立化成といった国内勢に加え、コダック、シプレイ、ハントケミカルなどの外資系も日本に工場を設け、レジストを生産するメーカーは十数社に達した。年率20〜30%と言われた成長性に引かれた参入であり、市場規模から見て競争の激化は避けられなかった。追い上げられる側の東京応化が選んだのは、品質での競争と、全国を数ブロックに分けて出来たてのレジストを各地のユーザーへ届ける生産配置であった。1981年6月の宇都宮工場、1983年12月の熊谷工場、1984年12月の阿蘇工場と、首都圏内陸から九州まで工場を立て続けに構え、売上高は1984年11月期に367.72億円、1985年11月期に430.09億円へ達した。この生産基盤の厚みが、創業50年目の株式公開を支える土台となった。