SCREEN HD ウエハ洗浄装置への集中 一分野への集中による半導体装置メーカーへの転身
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何をなぜ決めたか
- 概要
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1975年に半導体装置へ参入した大日本スクリーン製造が、石田明社長のもとで半導体前工程の数ある工程のうちウエハ洗浄を主戦場に定め、200ミリウエハ用のバッチ式ウェットステーションWS-820Lなどを投入して洗浄装置に資源を集中した事業選択。1994〜95年に半導体装置で世界トップ10入りし、電子工業向け機器が祖業の印刷関連機器を売上で上回った。
- 背景
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写真製版・印刷機器を祖業とする同社は、1975年のウエハ腐食機を皮切りに半導体前工程の装置をそろえ、1985年に洛西工場を新設した。半導体製造は500〜1000工程に及び、その3〜4割を占める洗浄が歩留りを左右する要所だった。
- 内容
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1989年就任の石田明社長は、露光や成膜ではなく洗浄を主戦場に選び、枚葉式スクラバーやバッチ式ウェットステーションWS-820Lを投入した。半導体市況が悪化し1993〜94年に相次いで最終赤字へ転落するなかでも投資を緩めず、1997年に300ミリ対応のFC-3000を発表した。
- 含意
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洗浄への集中は同社を洗浄装置で世界首位へ押し上げ、印刷から半導体装置への業態転換を実らせた。一方、2009年に60％だったシェアが2015年に45％を割るなど、一つの工程への集中は振れの大きさもはらむ。
いつ何が起きたか 5件
筆者の見解
勝てる工程を見定めて資源を集中する
この決断が示すのは、半導体の数百に及ぶ工程のなかで、どこに資源を配分するかという選択の重さである。大日本スクリーン製造は、装置メーカーとして目立つ露光や成膜ではなく、地味だが歩留りを左右する洗浄を主戦場に選んだ。写真製版で磨いた表面処理や液体の扱いという技術が、そのまま半導体の洗浄で生きる——祖業との連続性が、この一点への集中を支えていた。あれもこれもと工程を広げず、優位に立てる領域を見定めて資源を配分した点に、この選択の性格がうかがえる。
もっとも、一つの工程に深く賭ける戦い方は、その工程の景気や競争に業績が強く左右される裏返しでもある。洗浄で世界の首位に立った同社が、その後にシェアを落とした事実は、集中の強さと危うさを同時に示す。それでも、印刷の会社が半導体の洗浄で稼ぐ会社へと姿を変えたこの転換は、自社の技術がどこで生きるかを見極め、そこへ資源を集中する判断が企業の輪郭を作り替えることを伝える。半導体装置のどの工程に賭けるか——それは各社が今なお向き合う論点である。
Yutaka Sugiura, 2026年7月
業績の推移
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参考文献
- SCREENホールディングス公式サイト「SCREENの歴史：1973〜1988」
- SCREENホールディングス公式サイト「SCREENの歴史：1989〜2004」
- SCREENセミコンダクターソリューションズ「ウェットステーション WS-620C／WS-820C／WS-820L」製品情報
- 会社年鑑（大日本スクリーン製造・単体決算）